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中晶創芯半導体

単結晶シリコンリング

Monocrystalline Silicon Ring

硅材料视觉形象

単結晶シリコンリング

エッチング装置のシリコンリング向け材料・素材。寸法と加工要件は図面で確認します。

用途に応じて導電型、抵抗率、幾何寸法、表面状態を技術確認します。

製品写真

单晶硅硅环 / Monocrystalline silicon ring

実際の製品写真です。納入寸法と表面状態は図面および技術仕様書に準拠します。

エッチング用シリコン部品の材料仕様

単結晶シリコンインゴット

単結晶シリコンチューブ

単結晶シリコンリング

材料種別

単結晶シリコン

単結晶シリコン

単結晶シリコン

主な寸法

450–600 mm(具体的な仕様は技術仕様書で確認)

450–600 mm(具体的な仕様は技術仕様書で確認)

450–600 mm(具体的な仕様は技術仕様書で確認)

純度

>8N

>8N

>8N

導電型

P型(ホウ素) / N型(リン)

P型(ホウ素) / N型(リン)

P型(ホウ素) / N型(リン)

抵抗率

<0.02、1–4、60–90 Ω·cm

<0.02、1–4、60–90 Ω·cm

<0.02、1–4、60–90 Ω·cm

寸法公差

±0.05 mm 以内

±0.05 mm 以内

±0.05 mm 以内

平面度

≤15 μm、高グレード ≤8 μm

≤15 μm、高グレード ≤8 μm

≤15 μm、高グレード ≤8 μm

表面粗さ

標準 Ra≤0.4 μm、研磨面 Ra≤0.1 μm

標準 Ra≤0.4 μm、研磨面 Ra≤0.1 μm

標準 Ra≤0.4 μm、研磨面 Ra≤0.1 μm

製品仕様、検査方法、納入状態は双方が確認した技術仕様書と図面に準拠します。

硅材料技术视觉

大口径結晶育成

大口径製品、一貫した技術工程、継続的なプロセス開発に注力しています。直径450 mm製品の安定量産と並行し、600 mmおよびそれ以上の製品の研究開発と工程検証を進めています。

材料形状と加工

単結晶シリコン結晶から中実、筒状、リング状の素材へ。部品図面に基づいて加工経路と材料要件を決定します。

シリコン部品加工

エッチング部品の図面に基づき、内外径、厚さ、重要な幾何公差を確認します。材料形状に応じて研削・精密加工を行い、技術仕様書に従って検査します。

硅材料精密研磨工艺示意

精密加工

硅材料技术视觉

寸法検査

資料ダウンロード

半導体エッチング用シリコン材料 製品ガイド

単結晶シリコン製品紹介

CZ 単結晶育成

材料仕様の確認

図面に基づく加工

検査・納入

中晶創芯 · 材料と加工

大口径単結晶シリコンを中心に、結晶育成と後工程の加工をつなぎます。材料特性、重要寸法、表面状態、検査書類は案件図面と技術仕様書に基づいて確認します。


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